储罐、罐体

罐体的清洗我公司一般通过两种方式一、采用化学循环清洗的方式：　　化学清洗的方式为罐体单独建立化学循环清洗，化学清洗的目的是利用化学溶解的方法，彻底清除罐体设备表面所附着的灰尘及焊渣，并再罐体表面形成一层钝化膜。二、采用高压水射流的清洗方式，同时配合药剂及人工清洗　　高压水射流清洗将普通自来水通过加压数百乃至数千个大气压，然后通过特殊的喷嘴（孔径只有0.5—2.5毫米），以极高的速度（300—6

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罐体的清洗我公司一般通过两种方式

一、采用化学循环清洗的方式：

　　化学清洗的方式为罐体单独建立化学循环清洗，化学清洗的目的是利用化学溶解的方法，彻底清除罐体设备表面所附着的灰尘及焊渣，并再罐体表面形成一层钝化膜。

二、采用高压水射流的清洗方式，同时配合药剂及人工清洗

　　高压水射流清洗将普通自来水通过加压数百乃至数千个大气压，然后通过特殊的喷嘴（孔径只有0.5—2.5毫米），以极高的速度（300—600米/秒）喷出的一股或多股能量高度集中的水流，该水射流以很强的冲击动能，连续作用在被清洗表面，从而清除设备表面的污染物，该水射流以很强的冲击动能，连续作用在被清洗表面，从而使污垢剥离，达到清洗目的。同时对设备及设备内壁没有损坏、降低对环境的污染；